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BY4741感受態(tài)細胞

BY4741感受態(tài)細胞

簡(jiǎn)要描述:BY4741感受態(tài)細胞
BY4741菌株來(lái)源于釀酒酵母原始菌株——S288C,是實(shí)驗室的常用菌株,為配子MATa型,廣泛應用于鈉,鉀離子平衡;細胞抗鹽;各種金屬離子的吸收;重金屬毒性;各種糖類(lèi),碳源對真核生物細胞生長(cháng)的影響;過(guò)氧化物,超氧化物的吸收與運輸的研究中。

更新時(shí)間:2022-01-20

廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家

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詳情介紹
品牌其他品牌貨號BFNC86062
規格10x100ul/50x100ul供貨周期現貨
主要用途僅用于科研應用領(lǐng)域醫療衛生,生物產(chǎn)業(yè)

BY4741感受態(tài)細胞



產(chǎn)品規格CAT#: BFNC86062-01(10×100ul)/BFNC86062-02(50×100ul)

BY4741 Competent Cell:                                      100μl/支             保存: -80℃(3個(gè)月)


pYES2 (control vector, 10 ng/μl)                               10μl              保存:-80℃(12個(gè)月)

Carrier DNA (10 μg/μl)                                             100μl              保存:-20℃(12個(gè)月)

PEG/LiAC:                                                                    5ml              保存:    4℃(12個(gè)月)


基因型

MATa his3Δ1 leu2 met15Δ ura3-52


產(chǎn)品說(shuō)明

BY4741菌株來(lái)源于釀酒酵母原始菌株——S288C,是實(shí)驗室的常用菌株,為配子MATa型,廣泛應用于鈉,鉀離子平衡;細胞抗鹽;各種金屬離子的吸收;重金屬毒性;各種糖類(lèi),碳源對真核生物細胞生長(cháng)的影響;過(guò)氧化物,超氧化物的吸收與運輸的研究中。BY4741釀酒酵母為組氨酸、亮氨酸、甲硫氨酸 、尿嘧啶缺陷型菌株,可直接通過(guò)PEG/LiAc將pYES2質(zhì)粒轉化進(jìn)入BY4741細胞內。質(zhì)粒pYES2的篩選標志為URA,可用SD-URA板板進(jìn)行篩選。

青旗生物生產(chǎn)的BY4741感受態(tài)細胞經(jīng)特殊工藝制作,-80℃可保存三個(gè)月,pYES2質(zhì)粒檢測轉化效率>103 cfu/μg DNA。


BY4741感受態(tài)細胞


操作方法

1. 取100 µl冰上融化的BY4741感受態(tài)細胞,依次加入預冷的目的質(zhì)粒1-3 µg,Carrier DNA (96℃水浴3 min,快速冰浴

3 min,重復一次) 10 µl,PEG/LiAc 500 µl并吸打幾次混勻,30℃水浴30 min (15 min時(shí)翻轉6-8次混勻)。

2. 將感受態(tài)移到42℃水浴15 min (7.5 min時(shí)翻轉6-8次混勻)。

3. 5000 rpm離心 40 s棄上清,ddH2O 400 µl 重懸,離心 30s棄上清。

4. ddH2O 50 µl重懸,涂板,29℃培養48-96 h。





注意事項


1. 感受態(tài)細胞盡量在冰上融化。

2. 若使用pYES2質(zhì)粒表達蛋白,需在培養基中加入2%的半乳糖(篩選培養基中不用加半乳糖;當需要目的蛋白表達時(shí),需加入半乳糖代替葡萄糖作為碳源),以誘導目的基因的表達。

3. 轉化高濃度的質(zhì)??上鄳獪p少終用于涂板的菌量。

4. 同時(shí)轉化2-3種質(zhì)粒時(shí)可增加質(zhì)粒的用量。

5. 酵母為真核生物,不易長(cháng)期保存,隨感受態(tài)在-80℃保存時(shí)間的延長(cháng),轉化效率會(huì )不斷下降,建議保存時(shí)間不超過(guò)90天。

6. BY4741酵母菌株對高溫敏感,適生長(cháng)溫度為27-30℃;高于31℃,生長(cháng)速度和轉化效率呈指數下降。

7. 酵母在缺陷培養基中生長(cháng)速度比YPDA培養基慢,培養基中缺陷成分越多,生長(cháng)越慢,以轉化涂板為例:涂YPDA平板29℃,48 h培養可見(jiàn)直徑1 mm克??;涂SD單缺平板29℃,48-60 h培養可見(jiàn)直徑1 mm克隆,涂SD雙缺平板29℃,60-80 h培養可見(jiàn)直徑1 mm克隆,涂SD三缺或四缺平板平板29℃,80-90h培養可見(jiàn)直徑1 mm克隆。




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